電阻帶的高溫氧化進程

2022-03-07

  (1)氧化膜構成階段。初期,合金快速地被氧化,此間氧化速度較大,之后氧化速度開端減慢;當外表構成一層接連的氧化膜時,氧化速度持續減慢,氧化就進入第二階段。

  在此階段氧化速度與時刻的關系對錯線性的,氧化膜為申層結構。

  構成氧化膜的初期,合金中的銫、硅、鉻和其他易氧化元素敏捷同氧結合構成相應的氧化物,這些氧化物附著仵合金的外表,構成接連的氧化膜.同時,合金內部的鋁、硅、鉻等元素向外表擴散,并富集在初生的氧化膜下

  (2)氧化膜安穩階段。當合金外表構成一層接連的氧化膜后,氧持續向合金內部的滲透速度下降。這時,仍有少量氧能夠通過氧化膜同富集在膜下的合金元素發生氧化反應,構成內氧化層&

  在此階段合金以很慢的速度氧化,通過長時刻高溫效果之后,氧化膜的致密度増加,厚度增加,合金的氧化與時刻呈線性關系,氧化膜變成內外兩層雙層結構。氧化膜安穩階段時刻越長,合金的運用期也就越艮。

  (3)氧化膜損壞階段。當合金內氧化發展到一定的限度時,氧化膜開端產生裂紋&裂紋的呈現使大量氧進人合金內部,鐵、鋁、硅、鉻等大董被氧化,促使氧化速度急劇增加,同時,氧化膜開端出現大童的裂紋,終究導致損壞。

  總歸,電阻帶的氧化進程是反映了電熱元件的損壞進程5如何建立起具有保護效果的氧化膜,發展合金的氧化安穩階段,對延長電阻帶的運用期限是具有重要意義的。


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